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紅外鍍膜機(jī)

ZZS系列紅外真空鍍膜機(jī)

配置特點:旋轉(zhuǎn)阻蒸:大功率可旋轉(zhuǎn)阻蒸配置多位探頭:可配合IC6檢測多層薄膜EXCEL表格導(dǎo)入工藝數(shù)據(jù),導(dǎo)出工藝記錄數(shù)據(jù)全自動一鍵鍍膜設(shè)備,產(chǎn)品重復(fù)性好,低溫漂,抗激光閾值高晶控輸出線性控制對照0-10V對應(yīng)0-1000mA束流或0-1000A電流

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產(chǎn)品詳情

ZZS1100紅外鍍膜機(jī)參數(shù):
真空室內(nèi)徑:φ1100mm
真空室高度:1200mm
極限真空度:3.0×10-4Pa
恢復(fù)真空:大氣到4×10-3Pa≤12min
工件夾具:三圓盤平面行星
基片烘烤:自下向上烘烤
蒸發(fā)源1:電子槍蒸發(fā)
蒸發(fā)源2:旋轉(zhuǎn)阻蒸蒸發(fā)
膜厚控制:六探頭+晶控
離子源:考夫曼離子源
分子泵:3600L/S
機(jī)械泵:70L/S機(jī)械泵 300L/S羅茨泵

用途:蒸鍍紅外波段的長波通、段波通濾光片、增透膜等

配置特點:
旋轉(zhuǎn)阻蒸:大功率可旋轉(zhuǎn)阻蒸配置
多位探頭:可配合IC6檢測多層薄膜
EXCEL表格導(dǎo)入工藝數(shù)據(jù),導(dǎo)出工藝記錄數(shù)據(jù)
全自動一鍵鍍膜設(shè)備,產(chǎn)品重復(fù)性好,低溫漂,抗激光閾值高
晶控輸出線性控制對照0-10V對應(yīng)0-1000mA束流或0-1000A電流

標(biāo)簽: 紅外真空鍍膜機(jī)

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