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磁控濺射設(shè)備
產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品主要參數(shù)
真空室內(nèi)徑：φ1500mm
真空室高度：1800mm
極限真空度：5.0×10-4Pa
恢復(fù)真空：大氣到5×10-3Pa≤18min
工件夾具轉(zhuǎn)速：5~60 r.p.m
基片烘烤：側(cè)壁烘烤
磁控靶：孿生旋轉(zhuǎn)靶
濺射電源：中頻電源
膜厚控制：單探頭+晶控
離子源：條形離子源
用途：手機(jī)后蓋顏色膜
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