XPECVD系列類金剛石硬質(zhì)碳膜機(jī)

設(shè)備特點(diǎn)：采用全新電磁集能裝置使等離子能量集中于表面使工藝穩(wěn)定，3000多個(gè)工藝數(shù)據(jù)采集，精確為你的工藝保駕護(hù)航

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產(chǎn)品詳情

PECVD720產(chǎn)品主要參數(shù)
真空室內(nèi)徑：φ700mm
真空室高度：480mm
極限真空度：8.0×10-5Pa
恢復(fù)真空：大氣到4×10-3Pa≤15min

設(shè)備名稱：XBD720PECVD類金剛石硬碳膜沉積設(shè)備
基片：硅片，鍺片，硫化鋅，硫系玻璃等基材上沉積碳膜，
沉積方式：RF化學(xué)氣象沉積
設(shè)備型號(hào)：520PECVD 720PECVD 750PECVD
設(shè)備特點(diǎn)：采用全新電磁集能裝置使等離子能量集中于表面使工藝穩(wěn)定，3000多個(gè)工藝數(shù)據(jù)采集，精確為你的工藝保駕護(hù)航

使用紅外線波長(zhǎng)范圍：
近紅外線： (Near Infra-red， NIR)0.7~2.5 μm
中紅外線： (Middle Infra-red， MIR)2.5~12 μm